吉林（h）R-NF-Pt和Pt/C在10和1000mAcm-2的恒定电流密度下的计时电位分析。
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吉林d使用0.6MLiFSI-DME和0.6MHE-DME电解液在Li||Cu电解槽中锂电镀/剥离库伦效率（CE）。
g以含有C的CEI作为参考，通化提高试样中C K-edge的EELS精细结构。对于SiO2-SiO2界面，供电公司经Ar/O2等离子体→NH4OH活化获得的无中间层SiO2-SiO2界面具有优良的稳定性和可靠性。
如图4所示，研发应用未经处理的Cu表面存在大量氧化并黏附有机污染物，活化后表面有机污染物得以去除，同时在表面引入更多的-OH和-NH2结构。主要研究方向为晶圆键合、智能终端芯片异质集成与封装、医用新材料连接。
效率降低键合温度的本质在于控制Cu和SiO2表面化学状态。相比热压键合常用的预处理手段，保障共亲水性活化技术跳出了Cu和SiO2表面低温键合原理难以兼容的困境。
